光洋科靶材
光洋科(1785-TW)擁有完整靶材濺射技術,其中金屬靶材最高可以來到6N(99.9999純度)。 而其中若是靶材純度雜質較多,易使晶片良率變低,生產成本提高,所以必須通過嚴格的認證,才能夠打進台積電相關供應鏈。 ,光洋使用超過50種化學元素,具備3000種以上合金以及30種以上金屬氧化物濺鍍靶材產品製作經驗。 · 可提供儲存媒體產業、半導體產業、顯示器產業等領域之濺鍍靶材。 · 可客製 ... ,2024年9月3日 — 光洋科在金屬靶材的濺射技術上處於領先地位,其中6N(99.9999%)純度的高品質靶材已成為半導體製程中不可或缺的重要材料。由於靶材純度直接影響晶片的良率, ... ,2024年1月22日 — 以半導體為例,光洋科靶材用於薄膜沉積製程(濺鍍),材料特性包括高純度、適當的織構、高相對密度、細晶粒微結構、均勻的微結構,也因晶片複雜度提升帶動對 ... ,2024年1月29日 — 光洋科看好前端半導體領域業務成長動能,強調將持續推動靶材產品在客戶端多項製程陸續認證,逐步擴大市占率,同時看好客戶未來在先進製程強勁的成長空間, ... ,靶材是一種濺鍍製程所需的材料,通常用高純度化合物或純金屬製成,「一九七八年光洋科從一個鄉村鐵皮屋起家,初期的產品是銀化學品,後來就變身做靶材,演變到現在,光洋科 ... ,2024年8月31日 — 光洋科擁有完整靶材濺射技術,其中金屬靶材最高可以來到6N(99.9999)純度,若是靶材雜質較多,易使晶片良率變低,生產成本提高,所以必須通過嚴格的認證 ... ,光洋應材創立於1978年,並於2005年上櫃(股票代號:1785),為全球薄膜濺鍍靶材研發製造領導廠商,以貴稀金屬回收及精煉為平台,聚焦於高值化功能性材料研製,主要應用 ... ,濺鍍靶材:Heraeus、Tanaka Kikinzoku Group、JX Nippon Mining & Metals、鑫科等。 金屬材料:鑫科、金益鼎、佳龍。 四、財務相關 1.轉投資 公司與美商 ...
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