光刻機原理
下面，簡單介紹一下圖中各設備的作用。 測量台、曝光台：是承載矽片的工作檯。雷射器：也就是光源，光刻機核心設備之一 ..., 光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）透过掩模照射在硅片表面，被光线照射到 ..., 光刻機的工作原理. 在整個晶片製造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是製造晶片的最關鍵技術，他占晶片製造成本的35% ..., 而光刻的工作原理，大家可以想像一下膠片照片的沖洗，掩膜版就相當於膠片，而光刻機就是沖洗台，它把掩膜版上的芯片電路一個個的複製到光刻 ..., , 利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光後會發生性質變化，從而使光罩上得圖形複印到薄片上，從而使薄片 ..., 光刻機的工作原理：. 利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光後會發生性質變化，從而使光罩上得圖形複印到 ..., 光刻技術的原理. 光刻就是把晶片製作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見 ...,光刻機的工作原理. 在整個晶片製造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是製造晶片的最關鍵技術，他佔晶片製造成本的35%以上。 ,可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。
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可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。 https://zh.wikipedia.org |