光刻機原理

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光刻機原理

下面,簡單介紹一下圖中各設備的作用。 測量台、曝光台:是承載矽片的工作檯。雷射器:也就是光源,光刻機核心設備之一 ..., 光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶,再用光线(一般是紫外光、深紫外光、极紫外光)透过掩模照射在硅片表面,被光线照射到 ..., 光刻機的工作原理. 在整個晶片製造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術。光刻也是製造晶片的最關鍵技術,他占晶片製造成本的35% ..., 而光刻的工作原理,大家可以想像一下膠片照片的沖洗,掩膜版就相當於膠片,而光刻機就是沖洗台,它把掩膜版上的芯片電路一個個的複製到光刻 ..., , 利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光後會發生性質變化,從而使光罩上得圖形複印到薄片上,從而使薄片 ..., 光刻機的工作原理:. 利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見光後會發生性質變化,從而使光罩上得圖形複印到 ..., 光刻技術的原理. 光刻就是把晶片製作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光,光刻膠見 ...,光刻機的工作原理. 在整個晶片製造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻的技術。光刻也是製造晶片的最關鍵技術,他佔晶片製造成本的35%以上。 ,可以分為兩種,分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner,曝光時模板緊貼晶圓;以及利用類似投影機原理的stepper,獲得比模板更小的曝光圖樣。

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曝光機- 維基百科,自由的百科全書 - Wikipedia

可以分為兩種,分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner,曝光時模板緊貼晶圓;以及利用類似投影機原理的stepper,獲得比模板更小的曝光圖樣。

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