tmah蝕刻
TMAH. TMAH (Tetra methyl ammonium hydroxide, (CH3)4NOH) 氫氧化四甲基 ... 產品主要可運用為洗浄液、蝕刻液、正型光阻顯影液、各種溶媒、作為催化劑使用。 , 所有碱性蚀刻剂对硅的腐蚀都是各向异性的，蚀刻速率依赖于晶体取向。最快的腐蚀面通常是(100)，而(111)腐蚀率最低，其分解速率受限于化学反应 ...,半導體領域：有機材料蝕刻中TMAH作為正膠顯影劑，有機材料蝕刻主要是指光刻膠 ... 四甲基氫氧化銨(Tetramethyl ammonium hydroxide,TMAH)又稱為氫氧化四甲 ... ,產品與服務介紹. 精密化學品 · 顯影液 · TMAH (氫氧化四甲基銨). 顯影液. TMAH (氫氧化四甲基銨) · NaOH (氫氧化鈉) · KOH (氫氧化鉀). 蝕刻液. Al etchant (鋁蝕刻液). ,TMAH。以蝕刻矽的溶液來說，最常使用的應該就是KOH。而KOH和TMAH. 對矽基材所進行的蝕刻都是一種非等向性蝕刻。不同的濃度，不同的溫度，. 對不同的方向 ... ,54.74o. [100]. [111]. SiO2 或Si3N4. <100>矽晶片. SiO2. 或Si3N4. 矽晶圓. 非等向性溼式蝕刻. 蝕刻液. 鹼性溶液： KOH 、NaOH 等. 有機溶液： EDP、N2H4 、TMAH等 ... ,使用完之TMAH 溶液使用完畢要倒掉時，請確認倒入有機液回收桶。 6.3. 蝕刻設備架設說明. 1. 超音波震盪器外型如下圖：. 2. ,一般矽結構的非等向蝕刻以氮化矽(LPCVD SiNy)作為蝕刻遮罩，因氮化矽. 幾乎不會受到TMAH 與KOH 的蝕刻，但在遮罩圖形轉移方面需以反應式離子蝕刻(RIE). 為之， ... ,論文名稱: TMAH非等向性濕蝕刻特性之研究與應用. 論文名稱(外文):, Study and Application of TMAH Anisotropic Wet Etching. 指導教授: 陳炳煇. 指導教授(外文): ...
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