TFT-蝕刻鋁蝕刻後產品上有mura的原因
TFT-LCD製程中有一種面板瑕疵稱之為Mura，該瑕疵是指顯示器亮度不均勻造成各種痕跡的現象，此類瑕疵存在於光源不均的背景上，人類肉眼無法有效地將正常影像與Mura瑕疵 ... ,此時需由電子顯微鏡來得知錐形角(Taper angle)的變化，藉此判斷異常原因，控制蝕刻輪廓的相關因子與後段良率的關係，是蝕刻工程中相當重要工作。本論文主要研究動機為探討 ... ,... Mura成因大都来自于上盖层Mo金属层的蚀刻分布不均所致，故本发明着重于改善上盖层Mo金属层的蚀刻分布及均匀度，以将Mura产生原因消除。此外，并增加蚀刻速率以便与下层 ... ,由 彭顯凱 著作 · 2011 — 而在TFT-LCD製程中Wet Etch Process為線寬與彩紋控制的關鍵製程。故希望能穩定的控制線寬與彩紋在出貨的標準內，Wet Etch Process將是最為關鍵的製程之一。 ,由 林子祥 著作 · 2010 — 再者，無論是TFT LCD 或是Touch Panel 之產品應用，有逐. 漸走向大尺寸之趨勢。故所需要之替代金屬導體電阻率需低，與玻璃基板之附著. 力需高，需要較佳之圖案化能力以及 ... ,2017年12月8日 — 干蚀刻：利用不易被物理、化学作用破坏的物质光阻来阻挡不欲去除的部分，利用电浆的离子轰击效应和化学反应去掉想去除的部分，从而将所需要的线路图形留在 ... ,由 蔡尚公 著作 · 2005 — ... 蝕刻機台有關。進. 一步追查發現更換蝕刻機台的上電極前後，產品發生放電幕那的比率. 相同，因此放電幕那與上電極無關聯性。但比較更換各種型號的下電. 極前後，發現發生 ... ,本文主要介紹a-Si:H TFT LCD 的array 陣列製造技術，由不同的TFT 元件結構介紹說. 起，再深入製造技術－分清洗、沈積、黃光及蝕刻四大步驟，闡述各生產技術的重點。其. 中 ... ,这是由于上层Mo或MoW金属与下层AlNd金属的蚀刻选择比不够大所造成的结果。然而，如此一来却产生所谓的水波纹(Mura)缺陷。
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