射頻電漿微波電漿

說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程 ... 電漿是具有等量正電荷和負電荷的離子氣體 ... 8. 平行板電極(電容耦合型). 電漿系統. 電漿. 射頻功率. 暗區或. 鞘層. 電極 ..... 偏壓射頻功率. 磁力線. 微波. 磁場線圈. ECR 電漿. 晶圓. 靜電夾盤. ECR反應室示意圖 ...

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電漿的產生. ▫ 需要外界的能量- 射頻（RF）電漿源是半導 ... 欲產生射頻電漿需要真空系統 ... 電漿蝕刻. ▫ CF. 4. 氣體在電漿中分解，產生氟自由基以進. 行氧蝕刻製程 .... 氦氣. RF偏壓. 磁力線. 微波. 磁場線圈. ECR 電漿. 晶圓. 靜電夾盤. ECR 反應室. 26.

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此外，應用電子迴轉共振微波電漿源，氣體分子可被加速並獲得更高能量，其增加 ... 產生電子與離子，這些電子受射頻或微波等電磁場加速，碰撞氣體產生更多離子與 ...

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在真空鍍膜的領域中，適當運用高密度電漿除了能獲得緻密的鍍膜品質外，也能在低溫狀態下完成鍍膜，避免高溫對於鍍膜品質產生不之良影響，因此如何獲致高密度 ...

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CCR Technology 獨家專利的COPRA 系列的電漿源皆採無燈絲式（filamentless）低壓感應耦合RF 射頻設計，電漿源內建可調式匹配網路，可讓電漿能源之傳輸效率達 ...

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一般微波電漿的產生多使用915MHz或2.45GHz兩種頻率的微波電源，透過磁控管（Magnetron）產生微波源，並以導波管（Wave Guide）傳送特定震盪模式的微波，最後 ...

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到蝕刻、濺鍍及輔助化學氣相沉積鍍膜作說明，最後對目前盛行的高密度電漿源. 作選擇性 .... 引發電漿的電源供應器一般分為直流(DC, Direct Current)電源、射頻(RF,. Radio Frequency)電源及微波(MW, Microwave)電源，一般RF 的頻率13.56MHz，.

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括電感式電漿源，微波表面波電漿源,大氣電漿源，電漿浸沒離子佈植及電漿火炬等等。文中將簡介各式電漿 ... 是以線圈與電漿間. 高電位差造成的電容式效應為主，當所形成的電漿電 ... 之掌握極為重要。 在ICP 之射頻電場中，電子加熱的機制包括歐姆.

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於半導體或光電製程的電漿設備中，電漿通常是由氣 ..... 圖七PIC-MCC法模擬電漿射頻鞘層之離子能量分布 .... 商用微波源頻率還高，乃因應300毫米晶圓系統的大.

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