去光阻劑
因為負光阻產生交連作用(Cross-linking)，光阻比較不易去除，常用的光阻剝離劑(PR Stripper)為NMP (N-methyl-pyrrolidinone)。乾膜光阻去除(PR stripping)製程 ... ,此款光阻剝離液特別針對銅/鉬導線之蝕刻製程後之光阻去除，藉由剝離液使附著於銅導線上的光阻膨潤而溶解，但又不對銅導線造成傷害． 產品特性. 不傷害銅、鉬、鋁、 ... ,第七章: 微影製程. • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑. • 將設計圖案轉移至光阻劑. • 為IC製程中最重要之步驟. • 占晶圓總製程時間的40 ~50%. 光阻劑. • 光敏感物質. • 暫時塗 ... ,為輔，目的視作去光阻用，首先介紹微影製程的流程，大致可以分為：（1）去. 水烘烤（2）塗 ... 介紹光阻的化學性質與作用光阻化學成分簡介光阻劑主成之要點. 去水烘 ... ,ST-120/ST-121：這些去光阻劑針對去除乾膜光阻與電鍍正負型光阻膜設計，由於其極優抗腐蝕性，因此能在不損傷銅、鋁與其他其金屬下去除光阻層。此外，若烘烤前 ... ,有機溶劑型去光阻液，可應用於Discrete Device、LED、TP、TFT 等業界，且槽浴式及水平操作皆可使用。適用於酚醛樹酯配方之正、負以及環化、光酸機制的各類光阻 ... ,臺灣中華化學工業(股)公司，民國84年藉著與主要客戶之併購案跨入有機特用化學領域，從此，營業範圍領域更加跨越至染顏料、塑化、化纖、晶圓、面板、電子、光電等 ... ,去光阻液; 蝕刻後殘餘物去除劑. 應用領域: *IC半導體製程 *LED製程 *III-V 族射頻IC製程 *先進銅製程清潔劑 *其它特殊清洗液, 清潔劑. 聯絡人：; 新竹辦事處〡簡世緯 ... ,使用PRS-4000 系列去光阻劑剝離光阻披覆之晶片上之光阻時，操作的條件如時間和溫度的控制決定於光阻的製程如預烤溫度等。一般設定PRS-4050為55 ~ 85℃，10 ... ,去光阻劑之主要成分：DMSO(dimethyl sulfuroxide)、MEA(methyl ethyl amide)、BDG、NEA (n,n-dimethylacetamide) 和NMP(n-methyl pyrrolidone)等屬於硫類、胺類之 ...
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此款光阻剝離液特別針對銅/鉬導線之蝕刻製程後之光阻去除，藉由剝離液使附著於銅導線上的光阻膨潤而溶解，但又不對銅導線造成傷害． 產品特性. 不傷害銅、鉬、鋁、 ... http://www.daxinmat.com 光阻劑
第七章: 微影製程. • 暫時在晶圓上塗佈光阻劑. • 將設計圖案轉移至光阻劑. • 為IC製程中最重要之步驟. • 占晶圓總製程時間的40 ~50%. 光阻劑. • 光敏感物質. • 暫時塗 ... http://homepage.ntu.edu.tw 光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務 - 東南科技 ...
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